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Scheda Riassuntiva
Anno Accademico 2017/2018
Scuola Scuola di Ingegneria Industriale e dell'Informazione
Insegnamento 091584 - ADVANCED MATERIALS
  • 091583 - NANOSTRUCTURED MATERIALS
Docente Del Zoppo Mirella Elvira Angela
Cfu 5.00 Tipo insegnamento Modulo Di Corso Strutturato

Corso di Studi Codice Piano di Studio preventivamente approvato Da (compreso) A (escluso) Insegnamento
Ing Ind - Inf (Mag.)(ord. 270) - MI (471) BIOMEDICAL ENGINEERING - INGEGNERIA BIOMEDICA*AZZZZ080434 - NANOSTRUCTURED MATERIALS
Ing Ind - Inf (Mag.)(ord. 270) - MI (491) MATERIALS ENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY - INGEGNERIA DEI MATERIALI E DELLE NANOTECNOLOGIE*AZZZZ091584 - ADVANCED MATERIALS

Programma dettagliato e risultati di apprendimento attesi
Purpose of the course is an introduction to the effects that electron and light confinement introduces into the optical properties of materials.
Starting from the description of confined structures, through dedicated nanofabrication techniques, the consequences on physical properties are discussed.
Particular attention is devoted to inorganic semiconductors and as a special class of emitting devices solid state and nanotechnological lasers are considered.
The detailed program is as follows:
1. Introduction (Kasap Ch. 1,2)
2. Foundation of nanophotonocs (Ch. 2 Gaponenko)
2.1 Tunneling (Ch. 3 Gaponenko)
2.2 Penetration of a single barrier
2.3 Electrons in a periodic potential Ch. 6 Alonso Finn)
3. Confined structures (Ch. 4 Prasad)
3.1 Manifestatins of confinement
3.2 Nanotechnological lasers
4. An aside
4.1 p-n junction
4.2 Solid sate lasers (Kasap Ch.4) (Diode lasers J. Chem. Ed. 69, 89 1992; Nobel lecture on heterostructures)
5. Two-dimensional Nanostructures (G. Cao "Nanostructures and Nanomaterials" Imperial College Press Ch. 5.1-5.5)
5.1 Growth methods for nanomaterials
5.2 Vapor phase deposition techniques: Molecular Beam Epitaxy
6. Nanofabrication: lithography (R.Waser Ed. "Nanoelectronics and information technology", Wiley Sect. II Ch. 9)
6.1 Photolithography: foundamental concepts
6.2 Evolution of photolithography
6.3 Soft lithographies
6.4 SPM lithographies and nanomanipulation (R.Waser Ed. "Nanoelectronics and information technology", Wiley Sect. II Ch.12)
7. Nanoplasmonics
7.0 Fundamentals of electromagnetism (Kasap Ch.1)
7.1 Optical response of materials: dieletric and metal (Maier Ch.1)
7.2 Plasmons (Ch. 6 Gaponenko, Maier Ch. 2,3)
7.3 Metal nanoparticles (Maier Ch.5)

Note Sulla Modalità di valutazione

Oral examination


Bibliografia
Risorsa bibliografica obbligatoriaS.V. Gaponenko, Introduction to Nanophotonics, Editore: Cambridge University Press
Note:

Selected chapters

Risorsa bibliografica obbligatoriaP.N. Prasad, Nanophotonics, Editore: Wiley-Interscience
Note:

Selected chapters

Risorsa bibliografica obbligatoriaG. Cao, "Nanostructures and Nanomaterials" , Editore: Imperial College Press
Note:

Ch. 5.1-5.5

Risorsa bibliografica obbligatoriaR.Waser Ed., Nanoelectronics and information technology, Editore: Wiley
Note:

Sect. II Ch.9 and 12

Risorsa bibliografica obbligatoriaS.O. Kasap, Optoelectronics and Photonics: Principles and Practices , Editore: Prentice Hall
Note:

Chapters 1-4

Risorsa bibliografica obbligatoriaS.A. Maier, Plasmonics. Fundamentals and Applications , Editore: Springer
Note:

Chapters 1-5


Mix Forme Didattiche
Tipo Forma Didattica Ore didattiche
lezione
32.0
esercitazione
24.0
laboratorio informatico
0.0
laboratorio sperimentale
0.0
progetto
0.0
laboratorio di progetto
0.0

Informazioni in lingua inglese a supporto dell'internazionalizzazione
Insegnamento erogato in lingua Inglese
Disponibilità di materiale didattico/slides in lingua inglese
Disponibilità di libri di testo/bibliografia in lingua inglese
Possibilità di sostenere l'esame in lingua inglese
Disponibilità di supporto didattico in lingua inglese
schedaincarico v. 1.6.5 / 1.6.5
Area Servizi ICT
27/09/2020